常用的固体杂质清除系统有哪几种?

密封介质中往往会由于介质本身含有固体颗粒、易结晶、结焦等性质，在一定工作条件下出现固体颗粒，还有些特殊用途泵的密封在系统中有残渣、铁锈、污垢。固体颗粒进入密封面间会划伤密封面;固体杂质沉积在动、静环辅助密封处会影响密封环的浮动性，出现“密封搁住”现象;沉积在弹簧处则出现失弹现象。因此，必须设法清除密封介质中的杂质。

天固

机封密封冲洗分布装置应做到化地均匀冲洗，冷却密封端面，对于多喷嘴系统内设6~8个小孔，孔径3~4m。多点冲洗用在易汽化的介质中，也可用在产生摩擦热较多的高m值场合。冲洗孔位置应尽量开设在摩擦副处，以便更好地把热量导走。单点冲洗不能直接对准石墨环(静环)，KCZ200/400机封，也不能远离摩擦副，使冲洗作用减弱。

机封进行零下70~80℃的深冷处理，使之转变为马氏体组织、再经数小时800多摄氏度高温的时效处理，使之沉淀硬化，KCZ150/500机封，析出弥散分布的碳化物和其他金属间化合物，从而达到强化和硬化的目的。C-276焊接后不需要进行固溶热处理，加工性能好，KCZ250/325机封，能够阻止焊接热影响区晶界沉淀的形成，可以应用于有局部腐蚀和氧化还原介质的场合。Incone1718的热处理工艺过程较为简单，无深冷处理过程。

在密封端面外径d2和外径d4之间的平面受介质压力p1的作用，简化在上用F1表示;密封端面受有两个力，一是由介质压力和弹簧比压组成的端面比压用F、表示，另个力是液膜压力用F。表示。F、均匀地作用于密封端面上，其作用点位于密封端面的中心，安阳机封，而F。的作用点半径大于F的位置。轴向力F1、F，和F通过静环加在静环的辅助密封圈上，静环的反力用W表示。这样一来静环在这些力的共同作用下，由于作用点的差距产生了一个顺时针方向的力矩M，促使静环端面产生个变形。


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